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薄膜垂直磁化的理论形成机理
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摘要
成果类型:
期刊论文
作者:
郭继花;黄致新;张峰;崔增丽
作者机构:
华中师范大学物理科学与技术学院
华中师范大学物理科学与技术学院 武汉430079
语种:
中文
关键词:
薄膜;垂直磁化;形成机理
期刊:
华中师范大学研究生学报
年:
2007
期:
04
页码:
137-139
基金类别:
湖北省自然科学基金资助项目(2005ABA041);
机构署名:
本校为第一机构
院系归属:
物理科学与技术学院
摘要:
要形成垂直磁化膜,必须要有足够强的垂直磁各向异性能,使得由于磁化而产生的退磁场能量不足以让磁化矢量位于膜面内。在垂直磁记录情形下,针对垂直磁各向异性常数Ku、磁化矢量M与外加磁场Hext成θ角的情况进行了理论分析。在满足磁化矢量与外加磁场方向之间的夹角稳定的平衡条件和稳定性条件的基础上,分析得知:只有满足磁各向异性常数Kn大2πM这一关系的物质才可能形成垂直磁化膜。
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