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铜离子耦合零价铁的水体细菌及抗生素耐药基因去除方法

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成果类型:
专利
发明/设计人:
孙红卫;胡雨晴;刘泽杨;彭芳
申请/专利权人:
华中师范大学
专利类型:
发明
语种:
中文
申请时间:
2023.11.09
申请/专利号:
CN202311488893.4
公开时间:
2024.02.06
公开号:
CN117509847A
代理人:
张文俊
机构署名:
本校为其他完成单位
摘要:
本发明提供了一种铜离子耦合零价铁的水体细菌及抗生素耐药基因去除方法及制剂,所述方法为将低浓度铜离子和低剂量零价铁同时投加到含细菌的水体中进行处理,零价铁的投加量为20~300mg/L,所述铜离子和零价铁的质量比为1:100~1:10。本发明通过铜离子耦合零价铁协同作用杀菌并降解抗生素耐药基因。零价铁吸附在细菌表面,通过物理损伤、活化分子氧产生活性物种等方式对细胞膜结构造成损伤,导致细胞膜通透性增加,加速铜离子穿透受损细胞膜,显著提升细菌胞内铜含量,从而通过高效催化胞内芬顿反应等途径产生大量活性物种,导致细菌死亡,在不造成二次污染的情况下,实现同步杀菌和去除抗生素...

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