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溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

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成果类型:
期刊论文
作者:
郭继花;黄致新;崔增丽;杨磊;邵剑波
作者机构:
[郭继花; 黄致新; 崔增丽; 杨磊; 邵剑波] 华中师范大学物理科学与技术学院
语种:
中文
关键词:
射频磁控溅射;磁光性能;溅射功率
关键词(英文):
GdTbFeCo
期刊:
华中师范大学学报(自然科学版)
ISSN:
1000-1190
年:
2009
卷:
43
期:
3
页码:
413-415
基金类别:
基金项目:国家自然科学基金资助项目(60490291)
机构署名:
本校为第一机构
院系归属:
物理科学与技术学院
摘要:
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72 mm溅射功率为75 W,溅射气压为0.5 Pa,薄膜厚度为120 12m时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966 Oe,克尔角为0.413 °.
摘要(英文):
GdTbFeCo magnetic thin films were prepared onto glass substrates by RF magnetron sputtering system. The effect of sputtering power on the magneto-optical properties of the thin films was investigated. It is found that when the distance between the target and substrates, the sputtering power, sputtering pressure and thickness of the GdTbeFeCo thin films are 72 nm, 75 W, 0.5 Pa and 120 nm, respectively,the kerr rotation angle and coercivity that in the ...

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